5년간 독보적인 반도체 이론·면접 스테디셀러
이공계 누적 합격생 34,431명, 삼성 합격자 12,812명의 노하우를 담은 렛유인의 반도체 도서!
- 4년 연속 베스트셀러 1위
- 서울 S대학교 전공 교재 선정
- 반도체 대기업 현직자도 보는 도서
- 평점 10점 만점에 10점

최신 7개년 반도체 대기업 면접 기출문제를 기반으로 꼭 알아야하는 반도체 이론을 단 1권으로 완벽 정리!
반도체를 모르는 반린이도, 취업을 처음 준비하거나 관심있는 사람들도 쉽게 이해할 수 있도록 구성!

이공계 취업아카데미. 렛유인은 2013년부터 시작하여 "첨단기술지식의 대중화를 선도하는 기업으로써 첨단기술 정보, 지식을 쉽고 빠르게 전달하여, 사회 구성원간 정보의 비대칭을 해소하고 기술 공학분야 전문지식의 대중화를 이끄는 1등 기업이 된다!"라는 사명을 가지고 운영 중이다.

PART 1 반도체 입문하기
Chapter 01 반도체 알아보기
1. 반도체란 무엇인가

Chapter 02 반도체 산업과 시장
1. 반도체 시장
2. 반도체 산업의 밸류체인
3. 최근 반도체 산업 트렌드

Chapter 03 반도체 취업
1. 반도체 직무 종류와 직무별 엔지니어가 하는 일
2. 반도체 엔지니어를 꿈꾸는 여러분에게

PART 2 반도체 기초 이론
Chapter 01 반도체 이해를 위한 물리전자 기초
1. 물질기초 이론
2. 에너지 밴드 이론

Chapter 02 반도체 기초
1. 반도체 정의
2. 반도체 내의 캐리어 농도
3. 반도체 내의 캐리어 운동

PART 3 반도체 소자
Chapter 01 수동소자
1. 수동소자
2. R, L, C의 이해

Chapter 02 다이오드
1. PN 다이오드(PN Diode)
2. 금속-반도체 접합(Metal-Semiconductor Junction)

Chapter 03 BJT
1. BJT(Bipolar Junction Transistor)
2. 현대 실리콘 회로에서의 BJT

Chapter 04 MOSFET
1. MOS Capacitor
2. MOSFET
3. MOSFET의 Scale-down과 Short Channel Effect
4. 최신 MOSFET 소자

Chapter 05 CMOS Image Sensor
1. 이미지 센서 개요
2. CMOS 이미지 센서 개요

Chapter 06 SRAM
1. Memory의 정의와 메모리 계층도
2. SRAM 구조와 원리

Chapter 07 DRAM
1. DRAM 구조와 원리
2. 최신 DRAM 동향

Chapter 08 NAND Flash
1. 플래시 메모리(Flash memory) 구조와 원리
2. NAND Flash 구조와 원리
3. 현재의 NAND 플래시 메모리 추세와 3D NAND

Chapter 09 뉴메모리
1. 뉴메모리 개요
2. 뉴메모리 소자

PART 4 반도체 공정
Chapter 01 반도체 공정 이해를 위한 필수 개념
1. 반도체 공정 개요
2. Wafer 공정
3. 클린룸(Cleanroom)
4. 공정 설비와 공정 파라미터
5. 진공(Vacuum)
6. 플라즈마(Plasma)

Chapter 02 포토 공정(Photolithography)
1. 포토 공정이란?
2. 포토마스크(Photo Mask)
3. 포토 공정 순서
4. 감광제(Photoresist)
5. 노광 공정(UV Exposure)
6. 포토 공정 분해능 향상 기술(RET, Resolution Enhancement Technology)
7. 다중 패턴(Multiple Patterning)
8. 차세대 리소그래피 기술, EUV(Extreme ultra violet

Chapter 03 식각 공정(Etch)
1. 식각 공정이란?
2. 습식식각
3. 건식식각
4. 식각 특성
5. 건식식각과 플라즈마
6. Reactive Ion Etch(RIE)
7. 반도체 박막의 건식식각
8. 건식식각 장비
9. 고밀도 플라즈마(High Density Plasma)
10. 원자층 식각법(Atomic Layer Etch, ALE)

Chapter 04 박막 공정
1. 박막 공정이란?
2. 박막 품질
3. 물리적 기상 증착(PVD, Physical Vapor Deposition)
4. 화학적 기상 증착(CVD, Chemical Vapor Deposition)

Chapter 05 금속 배선 공정
1. 배선 공정이란?
2. 실리사이드(Silicide) 공정
3. 텅스텐 플러그(W plug)
4. 알루미늄 배선
5. Cu 전해 도금(Eletroplating)

Chapter 06 산화 공정(Oxidation)
1. 산화 공정이란?
2. 열산화막의 특성과 역할
3. 산화막 성장
4. 산화공정장비
5. 질화 공정

Chapter 07 Doping 공정
1. Doping 공정이란?
2. 확산공정
3. 이온주입 공정(Implantation)
4. 에피택시 성장법(Epitaxial Growth, Epi.)

Chapter 08 CMP 공정(CMP, Chemical－Mechanical Polishing)
1. CMP 공정이란?
2. CMP 공정 방법
3. CMP 장비
4. CMP 공정 특성
5. CMP 후 세정

Chapter 09 세정 공정(Cleaning)
1. 세정 공정이란?
2. 웨이퍼 세정
3. 습식세정 기술
4. 건식세정 기술

PART 5 반도체 테스트 및 패키징 공정
Chapter 01 반도체 테스트 공정
1. 테스트(Test)의 개념
2. 테스트 장비의 종류와 특성
3. 웨이퍼 테스트[Wafer Test, EDS(Electrical Die Sorting) Test]
4. 패키지 테스트(Package Test, Final Test)
5. 수율(Yield)

Chapter 02 반도체 패키징 공정
1. 패키징(Packaging) 공정
2. 반도체 패키지 기술

[부록] 필수이론 핵심요약집