¿ì¸®³ª¶ó´Â ¹ÝµµÃ¼ °±¹ À̶ó°í ÇÕ´Ï´Ù. ¹ÝµµÃ¼ ºÐ¾ß¿¡¼ ±âº»ÀûÀÎ ºÐ¼®ÀåºñÀÎ ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ(Scanning Electron Microscope) ÀÌ·Ð ¹× ±¸¼º¿¡ ´ëÇØ ¿¹Á¦ ±×¸²°ú »çÁøÀ» ÀÌ¿ëÇÏ¿© º¸´Ù ½±°Ô ÇкλýµéÀÇ ÀÌÇظ¦ µ½±â À§ÇÑ Ã¥ ÀÔ´Ï´Ù. ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æÀº ±âº»ÀûÀÎ ÀåºñÀÌ°í ÇöÀç´Â Á¤¸» ¸¹Àº ȸ»ç ¹× ¿¬±¸¼Ò¿¡¼ »ç¿ëÇÏ°í ÀÖ´Â Àåºñ À̳ª ¼®»ç ¹Ú»ç °úÁ¤À» °ÅÄ¡Áö ¾Ê´Â ÀÏ¹Ý ÇкλýµéÀº Á¢Çϱâ Á¶±Ý ¾î·Á¿î Àåºñ ÀÔ´Ï´Ù. ÀÌ Ã¥ÀÌ Çб³ ¶Ç´Â ȸ»ç¿¡¼ ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æÀ» »ç¿ëÇÏ°í ÀÖ´Â ºÐµé¿¡°Ô ÇÊ¿äÇÑ Ã¥À̶ó°í ÆǴܵ˴ϴÙ.
ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æÀ̷й׽ǽÀ
ºÐÇØ´É(Resolution)
±¤ÇÐÇö¹Ì°æ°ú ÀüÀÚÇö¹Ì°æ ºñ±³
ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ À̶õ?
ÀüÀÚºö¿¡ ÀÇÇÑ ½Ã·áÀÇ »óÈ£ÀÛ¿ë
Àüü System
¿¹æÃâÇü ÀüÀÚÃÑ(Thermoionic Emission)
Àü°è¹æÃâÇü ÀüÀÚÃÑ(Field Emission)
ÀüÀÚ ±¤Çаè(Electrical Optics)
ÀüÀÚÃÑ(Electron Gun)
ÀüÀڱⷻÁî(Electro Magnetic Lens)
°¡º¯Á¶¸®°³(Variable Aperture)
½Ã·á½Ç(Chamber)
½Ã·á½Ç ȯ°æ¿¡ µû¸¥ ÀüÀÚÇö¹Ì°æ ºÐ·ù
¿§Âî(Edge) È¿°ú
°¡¼ÓÀü¾Ð(Accelerating Voltage) È¿°ú
¿øÀÚ¹øÈ£(Atomic Number) È¿°ú
´ëÀü(Charge Up)È¿°ú
ÃÊÁ¡½Éµµ(Depth of Focus)
°¡¼ÓÀü¾Ð(Accelerating Voltage) º¯È¿¡ µû¸¥ À̹ÌÁö °ü°è
Áý¼Ó·»Áî(Condensor Lens) º¯È¿¡ µû¸¥ À̹ÌÁö °ü°è
°¡º¯Á¶¸®°³(Variable Aperture)Å©±â º¯°æ¿¡ µû¸¥ À̹ÌÁö °ü°è
ÀÛ¾÷°Å¸®(Working Distance) º¯È¿¡ µû¸¥ À̹ÌÁö °ü°è
ºÎ°¡Àåºñ(EDS, BSED)¸¦ »ç¿ëÀ» À§ÇÑ ÀüÀÚºöÀÇ Á¶Á¤ °ü°è
ÀüÀÚºöÀÇ Á¤·Ä
ÀüÀÚÃÑ Á¤·Ä(Gun Alignment)
°¡º¯Á¶¸®°³ Ãà Á¤·Ä
ÃÊÁ¡(Focus)°ú ºñÁ¡º¸Á¤(Stigmator) ¸ÂÃã
Çö¹Ì°æÀÇ ¼öÂ÷(Aberration)
½Ã·áÀüó¸®(Specimen Preparation)
½Ã·áÀüó¸®ÀÇ ¸ñÀû
ÄÚÆÃÀÇ ¸ñÀû
ÄÚÆÃÁ¾·ù
SEMÀÇ ½Ã·á Á¦ÀÛÀ» À§ÇÑ Áغñ¹°
SEM½Ã·á Á¦ÀÛ ¼ø¼
ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ ÀÛµ¿ ¹æ¹ý
ÃÊÁ¡ °ú ºñÁ¡º¸Á¤ Á¶ÀÛ¹ý(ÀÚ¼¼È÷)
Vacuum Control Short ¸Å´º¾ó
AISSERON Short ¸Å´º¾ó
HC-21 Ion Sputter Coater »ç¿ë¹ý
G20 Ion Coater »ç¿ë¹ý
¿¡³ÊÁöºÐ±¤ºÐ¼®±â(Oxford EDS) »ç¿ë¹ý
Cold Mounting ¹æ¹ý
Hot Mounting(Hot Press) »ç¿ë¹ý
Polisher »ç¿ë¹ý
ÁÖ»çÀüÀÚÇö¹Ì°æ ½Ç½À
´ëÇ¥Àû ¼Ò¸ð¼º ºÎÇ°ÀÇ Á¾·ù ¹× ¼ö¸í
Cathode Unit(Filament) ±³Ã¼
°íÁ¤Á¶¸®°³(Fixed Apertures)±³Ã¼
°¡º¯Á¶¸®°³(Variable Aperture) ±³Ã¼
Åͺ¸ºÐÀÚÆßÇÁ(TMP) Á¡°Ë »çÇ×
Rotary ÆßÇÁ Á¡°Ë ¹× °ü¸®
ºÎ·Ï