이 책은 마스크 사용자들과 칩 제조의 다른 분야에 종사하는 사람들에게도 유용하며, 이 기술의 복잡성을 이해하고 최종적인 칩의 기능과 사양을 희생시키지 않으면서도 마스크 제한조건들을 최적화하기 위해서 그들의 설계와 공정 전문기술을 사용할 수 있도록 도와준다.

제1편 서 론
제1장 마스크 제조의 소개

제2편 마스크 묘화
제2장 데이터 준비
제3장 마스크 묘화장치: 개괄
제4장 e-빔 마스크 묘화장치
제5장 레이저 마스크 묘화장치

제3편 광학식 마스크
제6장 광학식 마스크: 개괄
제7장 일반 광학식 마스크
제8장 진보된 광학식 마스크

제4편 NGL 마스크
제9장 차세대 리소그래피(NGL) 마스크: 개괄
제10장 전자빔 투사 리소그래피용 마스크
제11장 극자외선 리소그래피용 마스크
제12장 이온투사 리소그래피용 마스크
제13장 근접 X-선 리소그래피용 마스크

제5편 마스크 공정, 소재 및 펠리클
제14장 마스크 기층소재
제15장 마스크 제조용 레지스트
제16장 레지스트 충전 및 가열
제17장 마스크 공정
제18장 마스크 소재: 광학적 특성
제19장 펠리클

제6편 마스크 계측, 검사, 평가 및 수리
제20장 포토마스크 형상계측
제21장 광학 임계치수 측정
제22장 주사전자현미경을 사용한 포토마스크의 광 임계치수계측
제23장 SPM을 사용한 마스크의 기하학적 특성화
제24장 영상배치의 계측
제25장 포토마스크용 광학박막의 계측
제26장 위상천이 마스크(PSM)용 위상측정장비
제27장 마스크 검사: 이론과 원리
제28장 마스크 검사장비: Lasertec MD2500
제29장 마스크 영상 평가 장비
제30장 마스크 수리

제7편 모델링과 시뮬레이션
제31장 모델링과 시뮬레이션
약어 색인
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